ntroduction to PVD Technology
真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦，金，石墨，水晶之類的金屬或非金屬，氣體等材料利用溅射，蒸發，等離子體等技術，在基材上開成薄膜的一種表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多的优點：如對環境無汚染，是綠色環保工藝，對操作者無傷害，鍍層牢固，膜層致密性好，均勻抗腐蝕性強及耐磨性高！
真空鍍膜技術中經常使用的方法主要有：蒸發鍍膜（包括電弧蒸發，電子槍蒸發，電阻絲蒸發等）；溅射鍍膜（包括直流磁控溅射，中頻磁溅射，射頻溅射等技術），這些方法統稱為物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對應的化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition) 簡稱為 CVD 技術。
行業內通常所說的“IP”（ION PLATING） 離子鍍膜，是對PVD技術中由各種菜氣體離子和金屬離子參與成膜過程並在其中起到重要作用，為了強調離子的作用，而統稱為離子鍍膜。也可以相對的認為IP技術是PVD的另一種稱呼！
高真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害。
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